(半导体应用场景:晶圆抛光/切割、芯片封装、显影液配制、辅助试剂制备等)
半导体制造工艺对超纯水水质要求极为严格,核心指标需长期稳定满足:
✅ 电阻率 ≥18.2 MΩ·cm
✅ TOC(总有机碳)≤1 ppb
✅ 颗粒物(≥0.05μm)≤1个/mL
✅ 细菌含量 ≤0.001 CFU/mL
✅ 痕量金属离子(如 Na、K、Fe)≤0.01 ppb
选择供应商时需重点关注:
本地化服务能力:响应速度与运维支持;
半导体行业案例:同类工艺的落地验证报告;
水质承诺条款:合同需明确多参数达标保证。
注:以下信息基于公开资料整理,合作前请务必实地考察并索要水质检测数据。
要求提供同类项目的水质检测报告(需包含TOC、颗粒物、金属离子等完整参数);
实地考察厂商的本地服务团队与技术储备;
合同明确水质不达标的违约责任与解决方案。
半导体超纯水系统是长期投资,设备稳定性比初期价格更重要。